文章详情

气相法纳米级二氧化硅白炭黑正确的分散方法

日期:2024-09-03 06:45
浏览次数:3047
摘要:气相二氧化硅正确的分散方法 ����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������低和高的剪切分散为保证气相法二氧化����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������硅的效率和确保性能的稳定性,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������我们需要合适的分散方法。低剪切分散(LS����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������D)如使用螺旋桨式或搅拌叶片是不足于对气����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������相法二氧化硅进行剪切分散����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������的。这种混合类型的外围速度(����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������线速度)是1.5 -6m/sec (5����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������� - 20ft/sec)。在这种速率条件下,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������大的能量也只是用于润湿气相法二氧化硅����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������。这将导致:每批分散液达到的增稠效果����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������是不稳定的、使用效率的降低造成更多A����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������EROSIL®气相法二氧化硅的����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������添加、糟糕的细度表现、沉����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������淀和差的储存稳定性。运用锯齿形齿盘(分散机,参����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������看图5)的高剪切分散(HSD)的����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������剪切作用是分散比表面积在50-200g/m����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������2 之间的气相法二氧化硅产品(亲水型����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������和疏水型)起码的要求。气相法二氧化硅比表面积较高����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������的产品(例如比表300,380 ,以及����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������高比表疏水气相二氧化硅) 通常需要更����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������高能量强度的设备来达到分散的状态����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������。HSD 设备的线速度能高����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������于7m/sec(25ft/sec)。在多����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������数的工业应用之中,为了达到足够的剪切����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������,德固赛公司推荐的线速度范围在8-1����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������0 m/sec (26-32ft/sec)之间

气相法纳米级二氧化硅白炭黑正确的分散方法����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������
低和高的剪切分散为保证气相法二氧化硅����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������的效率和确保性能的稳定性,我们需要合适的分����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������散方法。低剪切分散(LSD)如使用螺旋桨式或����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������搅拌叶片是不足于对气相法二氧化硅进行剪切分����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������散的。这种混合类型的外围速����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������度(线速度)是1.5 -6m/sec (����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������5 - 20ft/sec)。在这种����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������速率条件下,大的能量也只是用于润湿气相法����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������二氧化硅。这将导致:每批分散液达到����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������的增稠效果是不稳定的、使用效率����� �������Ƴ����������� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������的降低造成更多AEROSIL®气相法二氧����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������化硅的添加、糟糕的细度表现、沉����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������淀和差的储存稳定性。运用锯齿形齿����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������盘(分散机,参看图5)的高剪切分散(����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������HSD)的剪切作用是分散比表面积在50-200g����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������/m2 之间的气相法二氧化硅����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������产品(亲水型和疏水型)起码的要求。气相法二����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������氧化硅比表面积较高的产品(例如比表300,38����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������0 ,以及高比表疏水气相二氧化硅) 通常需要更高能量强度的设备来达到分散的状态����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������。HSD 设备的线速度能����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������高于7m/sec(25ft/sec����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������)。在多数的工业应用之中,为了达到足����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������够的剪切,德固赛公司推荐的线速度范围在8-10����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������� m/sec (26-32ft/sec)之间(����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������图6)。

根据经验,首先计算在生产中可达到大的线����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������速度,并且注意在实验室试验时不要超过该数����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������值,这将有助于我们避免随后的放大试验中的问题。����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������


批量生产中,分散盘尺寸与容器大小之间的关系


高剪切分散的关键因素包括分散盘/容器的����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������比例(见图7)。分散盘/容器直径比应该����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������在1:2 到1:3 之间。使用这一比例,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������能观察到一个强漩涡直达分散盘。当该比����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������例接近1:4 的时候,物����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������料总是粘附在容器壁上,在这种情况下,不能清����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������楚观察到直至分散盘的漩涡。当分散盘太小的时候,只����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������能看到传动轴,粉末的润湿需����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������要更长的时间。分散盘应被置于合适的位置����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������,这样能够迫使物料由容器底部向上达到����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������分散盘的位置(一般0.5-����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������1 倍的分散盘径)。好的分散盘放置可以形����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������成4 个混合区(见图7)。


上部的两个混合区向下吸向����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������分散盘,而下面的两个混合区向上吸向分����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������散盘。分散盘的锋利程度和����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ����������� �������Ƴ�������传动带的松紧度需要做经常的维����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������护,它们同样对分散的效率和稳定性产生作用。高����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������强度研磨、砂磨、介质磨和辊压机的分����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������散能力充分,同时也是被推����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������荐用来分散高比表面积类型(>����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������300m2/g)气相二氧化硅产品����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������,也适用于要求高的增稠效率。长期����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������稳定性、细度和光泽(涂料、指甲打磨等)����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������的产品。随着外部的和内在的剪切力的提高,所����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������有的气相二氧化硅产品的表现都会����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������得到提高(图8)。


图8:典型的细度值 VS 对应的����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������分散(线)速度。左边的刻度表示的是美国����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������单位和Hegman 细度,右边的刻度表示公制单����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������位和微米细度

转子-定子系统是另外一种高剪切分����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������散设备,它适用于分散气相法����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������二氧化硅。这类设备有一个或����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������两个转动头,对于单分散头设备,线速度的计算����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������基于内部的转子直径(图9)。


对于双转子系统( 图10 ) , 基于每个����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ����������� �������Ƴ�������转子的直径和转速不同, 事实上有两个“ 线����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������速度” , 一个内部的, 一个外部的����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������。线速度应该分别加以计算����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������, 与齿盘系统( 分散机) 的线速度����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������计算相同。在大规模生产中,转子-定子系统能����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������够提供连续的生产。一些分散系统能够直����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������接将气相法二氧化硅从包装中添加����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������到混合器中, 从而减少扬尘( 图����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������11)。


详细内容可以咨询设备制造商。



图11: 连续的转子-定子混合器展示了液����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������体的添加口(a)和气相法二氧化硅的添加口(����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������b),产品出口(c)。该系统实际上����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������属于无尘操作

气相法纳米级二氧化硅白炭黑正确的分����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������散方法分散时间
分散时间的长短应该保持在一个*小����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������值,以防止过多的温度累积。长时间的分����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������散造成的过高温度会导致过低的混合粘度。在较高温度����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������条件下持续的混合对多数体系来说都是弊大����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������于利。然而,分散温度并不����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������会对有些体系造成负面的影响����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������(图12)。


分散时间和分散温度取决于特定的体系����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������、并根据经验为每一个配方制定。从测试的结果����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������我们可以看出一旦足够的能量被添加到体系����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������中(rpm/线速度),分散时间变得就不那么重����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������要(参看图13 和图14,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������例中用两种不同类型的不饱和间苯����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������二甲酸聚酯)。



同样,当分散达到时,过程控制或控制参数的轻����� �������Ƴ����������� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������微变化对产品的品质稳定性影响很小。当施加到体系的����� �������Ƴ����������� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������分散能量不足时,过程的所有����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������变动都会对产品的连续性以及气相����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������法二氧化硅的效率和产品的品质稳定性产生严重的影响����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������。



气相法纳米级二氧化硅白炭黑正确的分散方法要留有足够的时间用于加料准备,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������如果在分散过程中要添加多袋气相法����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������二氧化硅,就更是这样。配料准备包括打开����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������所有袋子以完成加料所必需的时间。润湿����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������时间是指所有的气相法二氧化硅被����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������媒质或液体相润湿所需要的时间。����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������在这一步,低剪切的混合经常被用到。所有的����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������气相法二氧化硅被润湿之后,混合����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������速度开始增加,分散开始进行。用于打开包装和物料润����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������湿的时间可能决定于操作者。

关于这一点,不同的操作者有的快些,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������有的慢些。如果不考虑这些时间,����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������由于操作的原因,一些批次的产品就可能得到����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������较多或是较少的分散时间。系统从漏斗或者是FIBC����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������(柔性中型散装容器,或“大袋”)中����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������自动添加气相法二氧化硅是可行的。通常,加入����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������速率(无论手动或是自动)应依����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������据物料对气相法二氧化硅润湿能力做调整。这样����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������可以将润湿时间缩小,分散得以开始。如果所有的气����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������相法二氧化硅被加到液体的上部����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������,会影响二氧化硅的润湿。����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������

气相法纳米级二氧化硅白炭黑正确的分散方法
添加顺序和润湿
气相法纳米级二氧化硅白炭黑正确的分散方法在许多过程中,气相法二氧化硅的加入顺序是����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������关键的。试验证实气相法二氧化硅应该是随加入油/����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������树脂之后的首要组分之一。气相法二氧化硅不应����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������该首先就预分散到溶剂之中,而是分散到成����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������膜液体组分之中。同时它宜在尽可能少的溶剂和����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������尽可能高的粘度条件下润湿、添加。一些树脂或是油����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������表现出润湿气相法二氧化硅的特别好的����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������性能,对于这样的情况,好的分散方法����� �������Ƴ����������� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������是将气相法二氧化硅先分散到润湿较好的介质中制备母����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������料,再将这种含气相法二氧化����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������硅的母料加入到其他的润湿不����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������那么好的体系之中。在水-稀释体系中����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������,疏水型气相法二氧化硅的加入顺����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������序尤为关键,建议的方案是首先将气相法二氧����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ����������� �������Ƴ�������化硅加入介质,无需水的调节。

一旦气相法二氧化硅润湿进入体系,才可添加其他����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������的颜料、填料和添加剂。如果水包裹了疏水型的气相����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������法二氧化硅,进一步的分散就会变得相当困难。在乳液����� �������Ƴ����������� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������体系中,亲水气相二氧化硅 ����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������和疏水气相二氧化硅 均被成功地应用����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������于促进颜料悬浮和抗流挂性。建����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������议在高树脂固含量(要高于40%)条件����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������添加。一旦树脂固含量低于38%,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������添加疏水型产品就会变得非常困难����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������。经过润湿和适当的分散之后,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������方可实施好的用水稀释。通常����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������建议气相法二氧化硅分散参与颜����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������料研磨过程。制备含有气相法����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������二氧化硅的浓缩母料,和直接添加到����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������调稀阶段对比,颜料和填料����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������已被证实可获得好的长期储存����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������稳定性和更高的增稠和触变性。,不推荐添加气相法����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������二氧化硅到调稀阶段中或是“后添加”,因为此类混合����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������的剪切力较低。剪切不够或过度由于在分散阶段的能����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������量不足导致的剪切不够较过度剪切更为常见。����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������然而,过度剪切可能会发生在长时间的分散����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������或者是非常高的分散温度条件,它们会����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������增加树脂的润湿性能。在这些条件下,����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������气相法二氧化硅可能被无规律地过度分散。这些����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������较长的距离不足以形成氢键的架桥。在这����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������些例子之中,需要用更多的气相法二氧����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������化硅来增加流变性。过度剪切的迹象之一就是����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������没有粘度和剪切后无触变性回复。����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������剪切不足的迹象是细度差、粘度低于预期和糟糕的长期����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������稳定性。


尊敬的客户:

多年从事国内外知名品牌化工产品代理销����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������售:德国赢创、德国瓦克、美����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������国卡博特、日本德山以及国产等厂家的气相二氧化硅、����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������气相二氧化钛气相三氧化二铝沉淀二氧化硅球形二氧化硅、软性二氧化硅、食品级二氧化硅、空心微珠、蜡粉、单甘脂、抗静电剂、开口剂、抗粘连剂、分散剂以及各种纳米原材料。 ����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������

公司一贯坚持“****,用户至上,信守����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ�������合同”的宗旨,凭借着高质量的产品,良����� �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������好的信誉,产品畅销国内近三十多个����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ����������� �������Ƴ�������省、市、自治区以及远销国外。竭诚与国����� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������内外商家双赢合作,共同发展,����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������共创辉煌!您要是对我司的产品有兴趣,欢迎来电咨询����� �������Ƴ����������� �������Ƴ������������ �������Ƴ������������ �������Ƴ�������。谢谢!